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氮化铝薄膜发光性能研究进展

文献类型:期刊论文

作者佟洪波 ; 巴德纯 ; 肖金泉 ; 闻立时
刊名真空
出版日期2007-03-25
期号2页码:22-26
关键词AlN薄膜 发光 TFEL器件
中文摘要介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜发光性能的应用前景做了展望。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24778]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能研究进展[J]. 真空,2007(2):22-26.
APA 佟洪波,巴德纯,肖金泉,&闻立时.(2007).氮化铝薄膜发光性能研究进展.真空(2),22-26.
MLA 佟洪波,et al."氮化铝薄膜发光性能研究进展".真空 .2(2007):22-26.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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