原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈荣敏 ; 张蕾 ; 严川伟 |
| 刊名 | 航空材料学报
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| 出版日期 | 2007-02-01 |
| 期号 | 1页码:41-45 |
| 关键词 | 真空紫外辐射 原子氧 降解 协同效应 |
| 中文摘要 | 为研究真空紫外与原子氧的协同作用,进行了环氧树脂和有机硅树脂的原子氧/真空紫外交互的地面模拟实验,结果表明:在交互作用中,对有机涂层破坏的主导因素是原子氧,真空紫外线起到协同作用,在切断有机高分子材料化学键的同时,为原子氧提供了反应基,加速了原子氧的反应速率。对比真空紫外辐照和原子氧/真空紫外交互实验结果分析中可以发现,有机硅树脂是较好的耐真空紫外辐射和原子氧侵蚀的有机涂层材料。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24814]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈荣敏,张蕾,严川伟. 原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用[J]. 航空材料学报,2007(1):41-45. |
| APA | 陈荣敏,张蕾,&严川伟.(2007).原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用.航空材料学报(1),41-45. |
| MLA | 陈荣敏,et al."原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用".航空材料学报 .1(2007):41-45. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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