温度、pH和Cl~-浓度对NiTi形状记忆合金电化学行为的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 李年杏 ; 王俭秋 ; 韩恩厚 ; 柯伟 |
刊名 | 中国腐蚀与防护学报
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出版日期 | 2006-08-30 |
期号 | 4页码:202-206 |
关键词 | NiTi形状记忆合金 动电位扫描 正交试验法 生物相容性 |
中文摘要 | 通过正交试验法,采用动电位扫描技术研究了温度、pH和Cl-浓度对NiTi形状记忆合金在模拟口腔溶液中电化学行为的影响.结果表明温度、pH和Cl-浓度对NiTi的点蚀行为都有较大影响.溶液温度为25℃时点蚀电位最负,随着温度的升高,点蚀电位逐渐升高.溶液中的Cl-浓度很低时(不超过0.1 mol/L)点蚀电位较高,随着Cl-浓度的增加,点蚀电位急剧下降.当溶液的pH为6.0时,点蚀电位最高. |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24970] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李年杏,王俭秋,韩恩厚,等. 温度、pH和Cl~-浓度对NiTi形状记忆合金电化学行为的影响[J]. 中国腐蚀与防护学报,2006(4):202-206. |
APA | 李年杏,王俭秋,韩恩厚,&柯伟.(2006).温度、pH和Cl~-浓度对NiTi形状记忆合金电化学行为的影响.中国腐蚀与防护学报(4),202-206. |
MLA | 李年杏,et al."温度、pH和Cl~-浓度对NiTi形状记忆合金电化学行为的影响".中国腐蚀与防护学报 .4(2006):202-206. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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