LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 胡吉明 ; 刘倞 ; 张鉴清 ; 曹楚南 |
| 刊名 | 高等学校化学学报
 |
| 出版日期 | 2006-06-10 |
| 期号 | 6页码:1121-1125 |
| 关键词 | 硅烷化处理 电化学沉积 DTMS LY12铝合金 防腐蚀 |
| 中文摘要 | 采用电化学技术在LY12铝合金表面沉积制备了十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS)膜.反射吸收红外光谱表明,DTMS硅烷试剂与铝合金基体表面发生了化学键合作用,生成—S iOA l键实现成膜.通过对膜覆盖电极在质量分数为3.5%的NaC l溶液中的电化学阻抗谱(EIS)测试结果表明,与开路电位下相比,采用阴极电位沉积方法得到硅烷膜的耐蚀性能有明显提高,且存在一个最佳“临界电位”,在此电位下沉积得到的硅烷膜具有最高的耐蚀性.扫描电镜观察结果表明,在“临界电位”下制备得到的硅烷膜的结构最致密.给出了硅烷膜覆盖电极的阻抗模型及相关参数的拟合结果. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25036]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡吉明,刘倞,张鉴清,等. LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究[J]. 高等学校化学学报,2006(6):1121-1125. |
| APA | 胡吉明,刘倞,张鉴清,&曹楚南.(2006).LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究.高等学校化学学报(6),1121-1125. |
| MLA | 胡吉明,et al."LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究".高等学校化学学报 .6(2006):1121-1125. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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