金属表面硅烷化防护处理及其研究现状
文献类型:期刊论文
作者 | 刘倞 ; 胡吉明 ; 张鉴清 ; 曹楚南 |
刊名 | 中国腐蚀与防护学报
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出版日期 | 2006-02-28 |
期号 | 1页码:59-64 |
关键词 | 硅烷 防腐蚀 工艺 水解与失效 |
中文摘要 | 综述了一种新型的金属表面防护处理技术———硅烷化处理的研究现状.对硅烷膜的制备工艺、表征及膜覆盖电极的性能进行了详细介绍.文中也同时探讨了硅烷溶液的水解与失效问题,这两个基础问题的研究有助于了解金属表面硅烷膜的形成,并对制备工艺的优化起到决定性作用.最后还介绍了更具发展潜力的电沉积制备硅烷膜技术并提出了展望. |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25131] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘倞,胡吉明,张鉴清,等. 金属表面硅烷化防护处理及其研究现状[J]. 中国腐蚀与防护学报,2006(1):59-64. |
APA | 刘倞,胡吉明,张鉴清,&曹楚南.(2006).金属表面硅烷化防护处理及其研究现状.中国腐蚀与防护学报(1),59-64. |
MLA | 刘倞,et al."金属表面硅烷化防护处理及其研究现状".中国腐蚀与防护学报 .1(2006):59-64. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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