磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓 |
| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2005-12-30 |
| 期号 | S1页码:88-93+103 |
| 关键词 | 磁控溅射 Ti膜 氦 热解吸 |
| 中文摘要 | 采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦金属比)高达0.19的氦。引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2～5nm的高压He泡内。热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致。与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25166]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[J]. 原子能科学技术,2005(S1):88-93+103. |
| APA | 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓.(2005).磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究.原子能科学技术(S1),88-93+103. |
| MLA | 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓."磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究".原子能科学技术 .S1(2005):88-93+103. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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