温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时 |
| 刊名 | 材料科学与工程学报
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| 出版日期 | 2005-06-20 |
| 期号 | 3页码:341-344 |
| 关键词 | 二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 温度 反射率 |
| 中文摘要 | 应用DC(直流 )反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2 薄膜 ,在固定的电源功率下 ,氩气流量为 4 2 .6sccm ,氧流量为 15sccm ,溅射时间为 30分钟的条件下 ,通过控制温度改变TiO2 薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer 12 0 0测量 ,当温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动 ;温度对消光系数k影响不大 ;当温度低于180℃薄膜的折射率变化不大 ,当温度达到 2 4 0℃左右时薄膜的折射率明显降低。通过XRD和SEM表征发现 ,随着温度的增加TiO2 的晶体结构由混晶变为单一的锐钛矿相 ,薄膜表面的颗粒由多变少 ,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25365]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005(3):341-344. |
| APA | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时.(2005).温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响.材料科学与工程学报(3),341-344. |
| MLA | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时."温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响".材料科学与工程学报 .3(2005):341-344. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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