磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 马爱华,郑华,刘实,王隆保 |
| 刊名 | 材料研究学报
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| 出版日期 | 2005-02-25 |
| 期号 | 1页码:64-71 |
| 关键词 | 金属材料 磁控溅射 Ti合金薄膜 贮氢 |
| 中文摘要 | 采用磁控溅射方法制备了Ti膜及TiMo、TiMoYAl和TiZrYAl等三种合金膜.合金膜中Mo、Zr和Al三种元素成份与靶材成分基本一致,而Y元素则与靶材成分有较大的偏差.在400℃吸氢工艺下,四种膜材的吸氢动力学性能良好,没有脱膜现象,饱和吸氢量均可超过1.5(H/M).膜材的吸氢PCT曲线表明,含Mo合金膜材具有最高的吸氢平衡压,外推出的室温下的数量级约为10-4Pa. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25462]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马爱华,郑华,刘实,王隆保. 磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能[J]. 材料研究学报,2005(1):64-71. |
| APA | 马爱华,郑华,刘实,王隆保.(2005).磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能.材料研究学报(1),64-71. |
| MLA | 马爱华,郑华,刘实,王隆保."磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能".材料研究学报 .1(2005):64-71. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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