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脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积

文献类型:期刊论文

作者李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠
刊名金刚石与磨料磨具工程
出版日期2004-08-30
期号4页码:40-42+45
关键词脉冲偏压 金刚石薄膜 频率
中文摘要由于直流偏压方法沉积金刚石薄膜易出现电荷积聚现象 ,从而影响了薄膜的均匀性。本文采用脉冲负偏压增强热丝化学气相沉积 (HFCVD)法 ,以WC -Co硬质合金为衬底制备金刚石薄膜 ,探讨了在不同频率脉冲直流偏压 (5 0 0~5 0 0 0Hz)下 ,脉冲偏压对金刚石薄膜的均匀性、致密性和晶粒度的影响 ,并且讨论了脉冲偏压作用的机理。对沉积的金刚石薄膜进行SEM、XRD和Raman分析。结果表明 ,采用 5 0 0Hz脉冲偏压可获得高质量的金刚石薄膜 ,薄膜的晶粒度小 ,均匀性和致密性较好。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25608]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠. 脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积[J]. 金刚石与磨料磨具工程,2004(4):40-42+45.
APA 李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠.(2004).脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积.金刚石与磨料磨具工程(4),40-42+45.
MLA 李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠."脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积".金刚石与磨料磨具工程 .4(2004):40-42+45.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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