TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宋贵宏,郑静地,刘越,孙超 |
| 刊名 | 人工晶体学报
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| 出版日期 | 2004-06-30 |
| 期号 | 3页码:422-427 |
| 关键词 | 电弧离子镀 TiAlN膜层 织构 TiAl过渡层 结合强度 内应力 |
| 中文摘要 | 利用电弧离子镀 ,在不锈钢和SiCp 增强 2 0 2 4铝基复合材料基底上沉积TiAlN薄膜。结果表明 :TiAlN膜层直接沉积在不锈钢基底上 ,膜层呈 [111]择优取向 ;然而 ,TiAlN膜层沉积在不锈钢基底的TiAl过渡层上 ,膜层呈 [2 2 0 ]方向择优取向 ;并且随着过渡层从零开始增厚 ,TiAlN膜层的织构系数T(111)逐渐减小 ,而T(2 0 0 )逐渐增大 ,但膜层一直以 [2 2 0 ]方向择优取向 ,内应力的存在可能是膜层产生 [2 2 0 ]方向择优取向的原因。在复合材料基底TiAl过渡层上沉积 ,随着负脉冲偏压的增加 ,TiAlN膜层的择优取向由 [111]向 [2 0 0 ]转变。在不锈钢基底上 ,没有TiAl过渡层时 ,膜层表面相对光滑 ,大颗粒较少 ;有了TiAl过渡层 ,表面大颗粒较多 ;TiAl过渡层不同沉积时间对膜层表面影响不大 ,颗粒尺寸相差无几。没有TiAl过渡层时 ,膜层结合强度很差 ,有了TiAl过渡层 ,结合强度明显增加 ,但结合强度的大小随过渡层沉积时间 (厚度 )变化。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25690]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋贵宏,郑静地,刘越,孙超. TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响[J]. 人工晶体学报,2004(3):422-427. |
| APA | 宋贵宏,郑静地,刘越,孙超.(2004).TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响.人工晶体学报(3),422-427. |
| MLA | 宋贵宏,郑静地,刘越,孙超."TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响".人工晶体学报 .3(2004):422-427. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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