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光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变

文献类型:期刊论文

作者彭晓,王福会,D.R.Clarke
刊名金属学报
出版日期2003-10-11
期号10页码:1055-1059
关键词光激发荧光谱术 Al2O3 相转变 Co-Cr-Al(Y)纳米涂层 磁控溅射
中文摘要磁控溅射Co—Cr—Al(Y)纳米涂层在1000,1100和1200℃氧化一定时间后,用光激发荧光谱技术表征热生长的Al2O3相.发现氧化层局部区域存在由非稳态相向稳态相的转变,即: γ→θ→α;其转变过程随温度升高显著加快,并在1200℃下变得不明显.在相同温度下,Y明显减缓Al2O3相转变过程.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25972]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
彭晓,王福会,D.R.Clarke. 光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变[J]. 金属学报,2003(10):1055-1059.
APA 彭晓,王福会,D.R.Clarke.(2003).光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变.金属学报(10),1055-1059.
MLA 彭晓,王福会,D.R.Clarke."光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变".金属学报 .10(2003):1055-1059.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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