透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析
文献类型:期刊论文
作者 | 陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时 |
刊名 | 真空科学与技术
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出版日期 | 2003-02-28 |
期号 | 1页码:12-14+18 |
关键词 | ZAO薄膜 X射线衍射 电阻率 透射率 反射率 |
中文摘要 | 用直流反应磁控溅射法制备ZAO纳米薄膜 ,对这种薄膜进行了XRD分析 ,并对其光、电性能作了详细的研究。结果表明 :ZAO薄膜的结构为标准的ZnO纤锌矿相 ,没有Al2 O3 相出现 ;其最低电阻率为 4 5× 10 -4Ω?cm、可见光透射率在 80 %以上 ,红外波段的反射率达 70 %以上 ,是优质的透明导电膜 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26195] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时. 透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析[J]. 真空科学与技术,2003(1):12-14+18. |
APA | 陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时.(2003).透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析.真空科学与技术(1),12-14+18. |
MLA | 陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时."透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析".真空科学与技术 .1(2003):12-14+18. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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