Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al_2O_3涂层
文献类型：期刊论文
| 作者 | 多树旺,李美栓,钱余海,童靖宇,孙刚 |
| 刊名 | 中国有色金属学报
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| 出版日期 | 2003-02-20 |
| 期号 | 1页码:172-176 |
| 关键词 | 原子氧 低地轨道 铜 防护涂层 |
| 中文摘要 | 在原子氧地面模拟设备中对铜片、Al2 O3 涂层试样进行了原子氧暴露实验 ,采用XPS、SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究。结果表明 :Cu受到原子氧的侵蚀 ,质量有少许增加 ,表面形貌和电学性能有些变化 ;Al2 O3 涂层质量变化很小 ,对基体提供了良好的保护作用。XPS分析结果表明Cu表面形成CuO氧化物层。反应溅射的Al2 O3 涂层是富Al的 ,初始暴露时由于氧化反应而质量有少许增加 ,随时间延长 ,涂层变得完全符合化学计量 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26226]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 多树旺,李美栓,钱余海,童靖宇,孙刚. Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al_2O_3涂层[J]. 中国有色金属学报,2003(1):172-176. |
| APA | 多树旺,李美栓,钱余海,童靖宇,孙刚.(2003).Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al_2O_3涂层.中国有色金属学报(1),172-176. |
| MLA | 多树旺,李美栓,钱余海,童靖宇,孙刚."Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al_2O_3涂层".中国有色金属学报 .1(2003):172-176. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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