管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算
文献类型：期刊论文
| 作者 | 汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,闻立时 |
| 刊名 | 人工晶体学报
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| 出版日期 | 2002-12-30 |
| 期号 | 6页码:576-582 |
| 关键词 | 热丝化学气相沉积 金刚石膜 温度场 模拟计算 |
| 中文摘要 | 在热丝化学气相沉积 (HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中 ,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算。结果表明 ,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀 ;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后 ,管道壁温度分布的均匀性大大提高 ;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度 ,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26259]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,闻立时. 管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算[J]. 人工晶体学报,2002(6):576-582. |
| APA | 汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,闻立时.(2002).管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算.人工晶体学报(6),576-582. |
| MLA | 汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,闻立时."管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算".人工晶体学报 .6(2002):576-582. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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