电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时 |
| 刊名 | 材料保护
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| 出版日期 | 2002-12-30 |
| 期号 | 12页码:10-12 |
| 关键词 | 离子镀 电弧 Ti(CxN1-x)薄膜 |
| 中文摘要 | 利用电弧离子镀设备 ,沉积了不同C、N比的Ti(CxN1 -x)薄膜 ,研究了C含量对Ti(CxN1 -x)薄膜的结构 (相结构、择优取向及晶格常数 )及力学性能 (硬度、膜基结合强度及抗磨损性能 )的影响。结果表明 ,复合镀层的C、N比随CH4、H2 流量之比而变化 ,但原子百分数之和基本不变 (约 4 6.5% )。复合镀层结构致密 ,与基体结合良好 ,抗磨和切削性能优于TiC和TiN镀层。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26278]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时. 电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究[J]. 材料保护,2002(12):10-12. |
| APA | 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时.(2002).电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究.材料保护(12),10-12. |
| MLA | 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时."电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究".材料保护 .12(2002):10-12. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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