磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 詹倩,贺连龙,李斗星 |
| 刊名 | 电子显微学报
 |
| 出版日期 | 2002-10-25 |
| 期号 | 5页码:645-646 |
| 关键词 | Fe-N薄膜:7792 微结构表征:4484 溅射:1988 微观结构:1642 高分辨像:1585 沉积时间:1505 材料科学:1481 中国科学院:1384 薄膜厚度:1346 金属研究所:1344 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26371]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 詹倩,贺连龙,李斗星. 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究[J]. 电子显微学报,2002(5):645-646. |
| APA | 詹倩,贺连龙,李斗星.(2002).磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究.电子显微学报(5),645-646. |
| MLA | 詹倩,贺连龙,李斗星."磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究".电子显微学报 .5(2002):645-646. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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