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低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能

文献类型:期刊论文

作者王金忠,赵岩,王明光,张彩碚
刊名东北大学学报
出版日期2002-09-30
期号9页码:911-914
关键词介孔SiO2 表面活性剂 模板剂 分子自组装 有序性 六方结构 介孔骨架
中文摘要在碱性条件下 ,采用低浓度阳离子表面活性剂 ,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用 ,在溶液中形成分子自组装体 ,从而形成有序排列的介孔SiO2 材料?水热和室温碱性条件下 ,表面活性剂与硅源的粒子数比为 0 0 6∶1 ?由HRTEM分析 ,小角度XRD分析 ,TG DTA分析及FT IR分析等研究表明 :在较低的表面活性剂浓度下 ,通过分子自组装体做模板剂 ,最终反应物经一定工艺处理 ,可形成六方结构介孔SiO2 ?水热条件下使分子的作用增强 ,提高介孔骨架中硅原子的聚集度 ,由于铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大 ,并使有序介孔结构保持完好?介孔SiO2 孔道大小 3~ 4nm ,六方结构排列?介孔结构保持完整的最佳煅烧温度为 5 0 0℃?
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26395]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王金忠,赵岩,王明光,张彩碚. 低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能[J]. 东北大学学报,2002(9):911-914.
APA 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚.(2002).低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能.东北大学学报(9),911-914.
MLA 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚."低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能".东北大学学报 .9(2002):911-914.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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