低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能
文献类型:期刊论文
作者 | 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚 |
刊名 | 东北大学学报
![]() |
出版日期 | 2002-09-30 |
期号 | 9页码:911-914 |
关键词 | 介孔SiO2 表面活性剂 模板剂 分子自组装 有序性 六方结构 介孔骨架 |
中文摘要 | 在碱性条件下 ,采用低浓度阳离子表面活性剂 ,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用 ,在溶液中形成分子自组装体 ,从而形成有序排列的介孔SiO2 材料?水热和室温碱性条件下 ,表面活性剂与硅源的粒子数比为 0 0 6∶1 ?由HRTEM分析 ,小角度XRD分析 ,TG DTA分析及FT IR分析等研究表明 :在较低的表面活性剂浓度下 ,通过分子自组装体做模板剂 ,最终反应物经一定工艺处理 ,可形成六方结构介孔SiO2 ?水热条件下使分子的作用增强 ,提高介孔骨架中硅原子的聚集度 ,由于铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大 ,并使有序介孔结构保持完好?介孔SiO2 孔道大小 3~ 4nm ,六方结构排列?介孔结构保持完整的最佳煅烧温度为 5 0 0℃? |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26395] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚. 低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能[J]. 东北大学学报,2002(9):911-914. |
APA | 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚.(2002).低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能.东北大学学报(9),911-914. |
MLA | 王金忠,赵岩,王明光,张彩碚."低表面活性剂浓度下有序介孔SiO_2的制备及性能".东北大学学报 .9(2002):911-914. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。