纳米晶钛薄膜的制备及结构分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依 |
| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2002-09-20 |
| 期号 | Z1页码:380-383+424 |
| 关键词 | 纳米晶薄膜 直流磁控溅射 空心阴极离子镀 |
| 中文摘要 | 采用磁控溅射和离子镀膜工艺在Mo基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯Ti薄膜 ,并利用X光衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM )和扫描电镜 (SEM )分析和观察了两类Ti膜的结构和形貌。实验结果显示 :与溅射镀膜相比 ,离子镀膜的晶粒择优取向程度略低 ,Ti膜与基片结合较好 ;较高的基片温度有利于提高膜的致密程度 ,并降低膜的晶粒择优取向程序。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26410]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依. 纳米晶钛薄膜的制备及结构分析[J]. 原子能科学技术,2002(Z1):380-383+424. |
| APA | 赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依.(2002).纳米晶钛薄膜的制备及结构分析.原子能科学技术(Z1),380-383+424. |
| MLA | 赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依."纳米晶钛薄膜的制备及结构分析".原子能科学技术 .Z1(2002):380-383+424. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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