有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王金忠,赵岩,张彩碚,王明光 |
| 刊名 | 沈阳建筑工程学院学报(自然科学版)
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| 出版日期 | 2002-07-15 |
| 期号 | 3页码:197-200 |
| 关键词 | 有序介孔SiO2 低表面活性剂 模板剂 分子自组装 |
| 中文摘要 | 论述了碱性介质条件下 ,采用低表面活性剂浓度 ,在表面活性剂与硅源的摩尔比仅为 0 0 6∶1的条件下 ,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用 ,在溶液中形成分子自组装体 ,进而形成有序介孔SiO2 材料 .并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析 ,以及红外可见光谱FT -IR分析 .研究表明 :在低表面活性剂下 ,经分子自组装可形成排列有序的六方结构 .水热条件下使分子的作用增强 ,介孔骨架中硅原子的聚集度提高 .实验说明铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大 ,并可使有序介孔结构保持完好 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26473]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王金忠,赵岩,张彩碚,王明光. 有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征[J]. 沈阳建筑工程学院学报(自然科学版),2002(3):197-200. |
| APA | 王金忠,赵岩,张彩碚,王明光.(2002).有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征.沈阳建筑工程学院学报(自然科学版)(3),197-200. |
| MLA | 王金忠,赵岩,张彩碚,王明光."有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征".沈阳建筑工程学院学报(自然科学版) .3(2002):197-200. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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