原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张蕾,严川伟,屈庆,李美栓,曹楚南,孙刚,童静宇 |
| 刊名 | 腐蚀科学与防护技术
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| 出版日期 | 2002-04-20 |
| 期号 | 2页码:78-81 |
| 关键词 | Kapton 原子氧(AO) 降解 防护 |
| 中文摘要 | 用光电子能谱 (XPS)、红外光谱 (FTIR)和扫描电镜 (SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺 (Kapton)在模拟原子氧 (AO)环境中表面所发生的侵蚀作用 .结果表明 ,AO对Kapton有较严重的侵蚀 ,原来平整的表面形貌变为毛毯状 ;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少 ,表明该涂层具有较明显的防护效果 .这种防护作用在于 ,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层 ,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26576]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张蕾,严川伟,屈庆,李美栓,曹楚南,孙刚,童静宇. 原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护[J]. 腐蚀科学与防护技术,2002(2):78-81. |
| APA | 张蕾,严川伟,屈庆,李美栓,曹楚南,孙刚,童静宇.(2002).原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护.腐蚀科学与防护技术(2),78-81. |
| MLA | 张蕾,严川伟,屈庆,李美栓,曹楚南,孙刚,童静宇."原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护".腐蚀科学与防护技术 .2(2002):78-81. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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