纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化
文献类型:期刊论文
作者 | 付广艳,牛焱,吴维 |
刊名 | 金属学报
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出版日期 | 2001-10-28 |
期号 | 10页码:1079-1082 |
关键词 | 纳米晶 Cu-Cr涂层 氧化 |
中文摘要 | 溅射纳米晶 Cu-Cr合金涂层在 700-800℃纯氧和空气中氧化后均形成了单一的 Cr2O3膜,但两种气氛下生成的Cr2O3膜的形貌及合金的氧化增重不同,这主要与气氛中的氧分压不同及纳米晶Cr2O3膜的生长机制有关. |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26783] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 付广艳,牛焱,吴维. 纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化[J]. 金属学报,2001(10):1079-1082. |
APA | 付广艳,牛焱,吴维.(2001).纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化.金属学报(10),1079-1082. |
MLA | 付广艳,牛焱,吴维."纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化".金属学报 .10(2001):1079-1082. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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