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纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化

文献类型:期刊论文

作者付广艳,牛焱,吴维
刊名金属学报
出版日期2001-10-28
期号10页码:1079-1082
关键词纳米晶 Cu-Cr涂层 氧化
中文摘要溅射纳米晶 Cu-Cr合金涂层在 700-800℃纯氧和空气中氧化后均形成了单一的 Cr2O3膜,但两种气氛下生成的Cr2O3膜的形貌及合金的氧化增重不同,这主要与气氛中的氧分压不同及纳米晶Cr2O3膜的生长机制有关.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26783]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
付广艳,牛焱,吴维. 纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化[J]. 金属学报,2001(10):1079-1082.
APA 付广艳,牛焱,吴维.(2001).纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化.金属学报(10),1079-1082.
MLA 付广艳,牛焱,吴维."纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化".金属学报 .10(2001):1079-1082.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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