负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄美东,林国强,董闯,孙超,蒋长荣,黄荣芳,闻立时 |
| 刊名 | 金属热处理
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| 出版日期 | 2001-07-25 |
| 期号 | 7页码:17-20 |
| 关键词 | 电弧离子镀 负偏压 多层薄膜 |
| 中文摘要 | 用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明 ,负偏压影响沉积温度 ,负偏压值越大 ,温度越高 ;负偏压值增大 ,表面形貌中的大颗粒数量减少 ,薄膜质量得到改善 ;负偏压在 - 30 0V左右时 ,膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26902]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄美东,林国强,董闯,孙超,蒋长荣,黄荣芳,闻立时. 负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用[J]. 金属热处理,2001(7):17-20. |
| APA | 黄美东,林国强,董闯,孙超,蒋长荣,黄荣芳,闻立时.(2001).负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用.金属热处理(7),17-20. |
| MLA | 黄美东,林国强,董闯,孙超,蒋长荣,黄荣芳,闻立时."负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用".金属热处理 .7(2001):17-20. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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