柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杨松岚,王福会,朱圣龙 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 2001-06-28 |
| 期号 | 6页码:625-627 |
| 关键词 | NiAl微晶涂层 柱状晶界面 氧化 |
| 中文摘要 | 利用 ＴＧＡ， ＳＥＭ对 ＮｉＡｌ微晶的涂层在空气中１０００℃恒温及循环氧化过程中柱状晶界面所起的作用进行了研究． 结果发现，柱状晶界面微孔在氧化初期作为自由表面严重影响了初始氧化动力学，同时柱状晶界面氧化物微钉的形成大大提高了氧 化膜的粘附性建立了基于柱状晶界面的附加自由表面数学模型． |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26932]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨松岚,王福会,朱圣龙. 柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响[J]. 金属学报,2001(6):625-627. |
| APA | 杨松岚,王福会,朱圣龙.(2001).柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响.金属学报(6),625-627. |
| MLA | 杨松岚,王福会,朱圣龙."柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响".金属学报 .6(2001):625-627. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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