软基片上ITO薄膜的光电特性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈猛,白雪冬,黄荣芳,闻立时 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
 |
| 出版日期 | 1999-03-30 |
| 期号 | 1页码:61-65 |
| 关键词 | ITO 聚脂膜 电阻率 透射率 反应窗口 |
| 中文摘要 | 利用直流反应磁控溅射技术，室温下在聚脂膜基片上制备了优良的ITO透明导电薄膜．研究了沉积速率，靶基距，氧流量以及厚度对薄膜光电性能的影响．所得薄膜的最低电阻率为4．23×10-4Ω?cm，可见光区平均透射率大于78％．对应于低电阻率（～10-4Ω?cm）和高透射率（～78＄）的反应窗口较文献中已报道的数据明显扩大． |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27516]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈猛,白雪冬,黄荣芳,闻立时. 软基片上ITO薄膜的光电特性[J]. 功能材料与器件学报,1999(1):61-65. |
| APA | 陈猛,白雪冬,黄荣芳,闻立时.(1999).软基片上ITO薄膜的光电特性.功能材料与器件学报(1),61-65. |
| MLA | 陈猛,白雪冬,黄荣芳,闻立时."软基片上ITO薄膜的光电特性".功能材料与器件学报 .1(1999):61-65. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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