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高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响

文献类型:期刊论文

作者郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂
刊名材料研究学报
出版日期1999-02-25
期号1页码:73-75
关键词脉冲电流 延伸率 位错
中文摘要采用高密度单脉冲电流(SHCDE)处理H62,针对其力学性能的变化,从理论上计算了处理后所产生的温升,分析了高密度脉冲电流对材料的影响所导致的电致塑性.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27535]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂. 高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响[J]. 材料研究学报,1999(1):73-75.
APA 郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂.(1999).高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响.材料研究学报(1),73-75.
MLA 郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂."高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响".材料研究学报 .1(1999):73-75.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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