TiN类薄膜的激光化学气相沉积
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张鸿俭,冯钟潮,张鹤 |
| 刊名 | 兵器材料科学与工程
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| 出版日期 | 1999-01-30 |
| 期号 | 1页码:41-44 |
| 关键词 | TiN类薄膜 钛合金 激光化学气相沉积 |
| 中文摘要 | 研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄，成份均匀，其平均显微硬度为ＨＫ２５００，耐磨 性比基材提高了六倍。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27551]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张鸿俭,冯钟潮,张鹤. TiN类薄膜的激光化学气相沉积[J]. 兵器材料科学与工程,1999(1):41-44. |
| APA | 张鸿俭,冯钟潮,张鹤.(1999).TiN类薄膜的激光化学气相沉积.兵器材料科学与工程(1),41-44. |
| MLA | 张鸿俭,冯钟潮,张鹤."TiN类薄膜的激光化学气相沉积".兵器材料科学与工程 .1(1999):41-44. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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