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激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构

文献类型:期刊论文

作者张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮
刊名材料研究学报
出版日期1998-12-15
期号6页码:663-664
关键词激光 Ti(C 化学气相反应生长薄膜 N)
中文摘要运用XRD、EPMA、TEM等手段分析在Ti—6Al—4V基材上用激光化学气相反应生长的Ti(C,N)薄膜的成分、结构、显微组织可在基材表面形成大面积均匀的Ti(C,N)膜层,为无明显择优取向的等轴纳米晶,其中有少量的Ti2N相,且Al、V含量低于基材。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27581]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮. 激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构[J]. 材料研究学报,1998(6):663-664.
APA 张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮.(1998).激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构.材料研究学报(6),663-664.
MLA 张炳春,李梅,王亚庆,冯钟潮."激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构".材料研究学报 .6(1998):663-664.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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