采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 苏革,黄荣芳,闻立时,成会明 |
| 刊名 | 表面技术
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| 出版日期 | 1998-02-20 |
| 期号 | 1页码:5-7+49 |
| 关键词 | 热丝法 沉积 金刚石薄膜基材 |
| 中文摘要 | 热丝法是一种比较成熟的气相合成金刚石膜的方法,与其它方法比较,热丝法在工艺参数对金刚石薄膜的结构和质量的影响、界面的形成、薄膜生长各阶段的特征等方面的基础研究及各种应用研究上有其独特的优越性.木文采用热丝法在SiC晶须增强Si_3N_4.陶瓷、AIN陶瓷、Si单晶片、Cu片、Mo片等基材上沉积出金刚石薄膜,并通过TEM和SEM进行观察,分析和研究了影响金刚石薄膜沉积的因素. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27740]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 苏革,黄荣芳,闻立时,成会明. 采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜[J]. 表面技术,1998(1):5-7+49. |
| APA | 苏革,黄荣芳,闻立时,成会明.(1998).采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜.表面技术(1),5-7+49. |
| MLA | 苏革,黄荣芳,闻立时,成会明."采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜".表面技术 .1(1998):5-7+49. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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