Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张伟强,杨院生,胡壮麒 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 1998-01-18 |
| 期号 | 1页码:1-6 |
| 关键词 | 共晶 层片间距 流动 稳定性 |
| 中文摘要 | 本文根据层片状共晶生长理论，利用时间相关模型对存在对流作用的Al-CuAl2共晶层片间距进行数值求解最小和最大层片间距（λo和λmax）的计算结果与实验结果符合较好，熔体的流动使Al-CuAl2共晶稳态生长的层片间距增加；当层片间距超过λmax时，层片组织处于非稳态：共晶生长速率越低，液相流动的影响越大 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27758]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张伟强,杨院生,胡壮麒. Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟[J]. 金属学报,1998(1):1-6. |
| APA | 张伟强,杨院生,胡壮麒.(1998).Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟.金属学报(1),1-6. |
| MLA | 张伟强,杨院生,胡壮麒."Al-CuAl_2共晶层片间距的数值模拟".金属学报 .1(1998):1-6. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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