纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟 |
| 刊名 | 材料研究学报
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| 出版日期 | 1997-10-25 |
| 期号 | 5页码:473-478 |
| 关键词 | 纳米陶瓷 Si_3N_4 非晶 超高压 烧结 |
| 中文摘要 | 用六面顶超高压在1.0－5.0GPa，25～1500℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Si3N4粉，有“冷烧结”特代表现为：在5GPa，室温下压制的块体密度达理论值的93％，这是高压下纳米粒子产生流变的结果当烧结温度较低（800～950℃）时，高压烧结体为棕色透明的致密（98％）纳米非晶块体；烧结温度较高（1300～1500℃）时，形成纯白色致密纳米晶Si3N4块体，硬度为15.53～1605GPa研究表明，超高压烧结纳米陶瓷粉可显著降低烧结温度，控制晶粒生长，是获得致密纳米材料的有效途径 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27797]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟. 纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997(5):473-478. |
| APA | 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟.(1997).纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结.材料研究学报(5),473-478. |
| MLA | 李亚利,梁勇,佟百运,郑丰,马贤峰,崔硕景,赵伟."纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 .5(1997):473-478. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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