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直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术

文献类型:期刊论文

作者胡运明,陈道伦,苏会和,王中光
刊名材料研究学报
出版日期1997-06-25
期号3页码:240-244
关键词扫描电镜 电子通道衬度技术 铜单晶体 位错结构
中文摘要介绍了扫描电镜(SEM)电子通道衬度(ECC)技术.该技术可以很好地观察材料中位借结构,用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构,与常规的TEM方法观察结果基本一致.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27843]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
胡运明,陈道伦,苏会和,王中光. 直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术[J]. 材料研究学报,1997(3):240-244.
APA 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光.(1997).直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术.材料研究学报(3),240-244.
MLA 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光."直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术".材料研究学报 .3(1997):240-244.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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