直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光 |
| 刊名 | 材料研究学报
 |
| 出版日期 | 1997-06-25 |
| 期号 | 3页码:240-244 |
| 关键词 | 扫描电镜 电子通道衬度技术 铜单晶体 位错结构 |
| 中文摘要 | 介绍了扫描电镜（SEM）电子通道衬度（ECC）技术．该技术可以很好地观察材料中位借结构，用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构，与常规的TEM方法观察结果基本一致． |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27843]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光. 直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术[J]. 材料研究学报,1997(3):240-244. |
| APA | 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光.(1997).直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术.材料研究学报(3),240-244. |
| MLA | 胡运明,陈道伦,苏会和,王中光."直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术".材料研究学报 .3(1997):240-244. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。