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薄膜厚度的电子探针测量软件与应用

文献类型:期刊论文

作者尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英
刊名金属学报
出版日期1997-04-18
期号4页码:443-448
关键词电子探针 金属薄膜 质量厚度
中文摘要利用Sewell的X射线激发深度公式建立起用电子探针测量有衬底纯元素薄膜厚度的应用软件;测量了Ti,Cu,Mo等四种厚度的薄膜标样的质量厚度,并对测量误差进行分析;最后给出了各种纯元素薄膜厚度的测量下限.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27876]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英. 薄膜厚度的电子探针测量软件与应用[J]. 金属学报,1997(4):443-448.
APA 尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英.(1997).薄膜厚度的电子探针测量软件与应用.金属学报(4),443-448.
MLA 尚玉华,郭延风,刘志东,徐乐英."薄膜厚度的电子探针测量软件与应用".金属学报 .4(1997):443-448.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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