稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析
文献类型:期刊论文
作者 | 姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒 |
刊名 | 自然科学进展
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出版日期 | 1996-12-15 |
期号 | 6页码:44-49 |
关键词 | 稳态共晶生长 相间距选择 界面过冷度方程 |
中文摘要 | 修正了JH经典模型关于平界面生长假设,建立新的层片共晶生长模型。应用严格的界面曲率数学公式,数值计算界面过冷度普适性方程,获得正确的共晶生长界面形态。并计算了稳态相间距选择极限,表明层片共晶生长存在稳态间距选择范围,随生长速度增大,选择范围越来越尖锐。最小相间距λ_m和JH及Trivedi模型结果一致,而最大相间距λ_M则不遵循上述经典模型。 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27945] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒. 稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析[J]. 自然科学进展,1996(6):44-49. |
APA | 姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒.(1996).稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析.自然科学进展(6),44-49. |
MLA | 姚向东,黄韬,周尧和,胡壮麒."稳态层片共晶长生模型——Ⅰ.理论分析".自然科学进展 .6(1996):44-49. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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