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高温高压合成的硅酸锶铕铋的发光特性

文献类型:期刊论文

作者杨景海,幸志明,闵春宗,张巨元,耿义志,姚斌,刘宏建,苏文辉
刊名材料研究学报
出版日期1995-12-25
期号6页码:530-534
关键词高温高压 激活剂 发光特性
中文摘要用高温高压方法合成了Sr2SiO4:E3+u,Bi3+和SrSiO3:Eu3+,Bi3+研究了合成压力对其发光性能的影响,与用溶胶-凝胶共沉淀法和常压高温法合成的产品作比较.常压制备的SrSiO3:Eu3+,Bi3+为六角结构,而在2.34—4.10GPS的合成压力范围内,它转变为反正交结构;常压下Sr2SiO4:Eu3+,Bi3+为单斜结构,在4.2GPa的合成压力下,未发现其结构相变.高压合成产物的发光强度和相对量子发光效率降低,半宽度明显增加,且伴有红移发生.发光强度的改变是压致晶场的变化引起的
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28111]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
杨景海,幸志明,闵春宗,张巨元,耿义志,姚斌,刘宏建,苏文辉. 高温高压合成的硅酸锶铕铋的发光特性[J]. 材料研究学报,1995(6):530-534.
APA 杨景海,幸志明,闵春宗,张巨元,耿义志,姚斌,刘宏建,苏文辉.(1995).高温高压合成的硅酸锶铕铋的发光特性.材料研究学报(6),530-534.
MLA 杨景海,幸志明,闵春宗,张巨元,耿义志,姚斌,刘宏建,苏文辉."高温高压合成的硅酸锶铕铋的发光特性".材料研究学报 .6(1995):530-534.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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