采用红外漫反射光谱研究纳米Si_3N_4的表面结构
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李亚利,高阳,梁勇,郑丰,肖克沈,胡壮麒 |
| 刊名 | 物理化学学报
 |
| 出版日期 | 1995-10-30 |
| 期号 | 10页码:886-889 |
| 关键词 | 付利叶红外光谱 Si_3N_4 表面 |
| 中文摘要 | 采用付利叶红外漫散反射光谱对激光法制取的具有不同化学组成的纳米Si3N4粉（15-30nm）的表面结构，室温表面氧化及热稳定性进行了研究.结果表明新鲜的富氮粉体表面主要为硅胺基（Si3-xNHx，x=1-3）结构，粉体暴露空气后硅胺基会与空气中的水分子反应形成硅醇基（SiOH）结构.具有不同组成的粉体随粉中氮含量的增大粒子表面硅胺基量也增加；富硅粉体表面硅胺基较少，其氧化主要为表面硅原子与空气中氧原子形成Si－O键．富氮粉体表面的硅胺基和硅醇基分别在＞600℃和＞1500℃真空处理条件下消失 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28132]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李亚利,高阳,梁勇,郑丰,肖克沈,胡壮麒. 采用红外漫反射光谱研究纳米Si_3N_4的表面结构[J]. 物理化学学报,1995(10):886-889. |
| APA | 李亚利,高阳,梁勇,郑丰,肖克沈,胡壮麒.(1995).采用红外漫反射光谱研究纳米Si_3N_4的表面结构.物理化学学报(10),886-889. |
| MLA | 李亚利,高阳,梁勇,郑丰,肖克沈,胡壮麒."采用红外漫反射光谱研究纳米Si_3N_4的表面结构".物理化学学报 .10(1995):886-889. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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