Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时 |
刊名 | 金属功能材料
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出版日期 | 1995-10-20 |
期号 | Z1页码:142-146 |
关键词 | Fe-N/Ti-N多层膜 层间耦合 Fe_(16)N_2 |
中文摘要 | 用磁控溅射技术成功的制备了Fe-N/Ti-N纳米多层膜.Fe-N层厚度固定为2.2nm,Ti-N层厚度在0.5nm和4.6nm之间依次变化.由X射线衍射结果发现样品中有Fe16N2相存在,发现Ti-N层厚度的变化,对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度(MS)有很大影响,Fe-N层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化. |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28142] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时. Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响[J]. 金属功能材料,1995(Z1):142-146. |
APA | 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时.(1995).Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响.金属功能材料(Z1),142-146. |
MLA | 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时."Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响".金属功能材料 .Z1(1995):142-146. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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