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Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响

文献类型:期刊论文

作者王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时
刊名金属功能材料
出版日期1995-10-20
期号Z1页码:142-146
关键词Fe-N/Ti-N多层膜 层间耦合 Fe_(16)N_2
中文摘要用磁控溅射技术成功的制备了Fe-N/Ti-N纳米多层膜.Fe-N层厚度固定为2.2nm,Ti-N层厚度在0.5nm和4.6nm之间依次变化.由X射线衍射结果发现样品中有Fe16N2相存在,发现Ti-N层厚度的变化,对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度(MS)有很大影响,Fe-N层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化.
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28142]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时. Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响[J]. 金属功能材料,1995(Z1):142-146.
APA 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时.(1995).Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响.金属功能材料(Z1),142-146.
MLA 王振军,顾有松,常香荣,田中卓,肖纪美,闻立时."Ti-N隔层厚度对Fe-N/Ti-N纳米多层膜磁性的影响".金属功能材料 .Z1(1995):142-146.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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