Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美 |
| 刊名 | 真空科学与技术
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| 出版日期 | 1995-08-15 |
| 期号 | 4页码:288-290 |
| 关键词 | Fe－N／Ti－N 纳米多层膜 磁控溅射 |
| 中文摘要 | 用磁控溅射技术制备了周期性良好的Fe－N／Ti-N纳米多层膜。Ti-N单层的厚度固定为3nm，Fe－N单层的厚度在2．5～11nm之间变化。用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用X射线衍射研究了样品的结构。发现在Fe－N层较薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28173]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美. Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究[J]. 真空科学与技术,1995(4):288-290. |
| APA | 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美.(1995).Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究.真空科学与技术(4),288-290. |
| MLA | 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美."Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究".真空科学与技术 .4(1995):288-290. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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