用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须
文献类型:期刊论文
作者 | 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒 |
刊名 | 材料研究学报
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出版日期 | 1995-04-25 |
期号 | 2页码:149-152 |
关键词 | Si_3N_4 晶须 纳米粉 非晶 Si/N/C |
中文摘要 | 采用激光诱导有机硅烷气相合成的纳米非晶Si/N/C粉为原料,在1600℃,101.3kPaN2气下,在石墨感应炉中原位制备出α-Si3N4晶须,其直径为0.1-0.5μm,长可达几毫米,纯度较高,无过剩碳及金属杂质 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28238] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒. 用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须[J]. 材料研究学报,1995(2):149-152. |
APA | 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒.(1995).用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须.材料研究学报(2),149-152. |
MLA | 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒."用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须".材料研究学报 .2(1995):149-152. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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