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用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须

文献类型:期刊论文

作者李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒
刊名材料研究学报
出版日期1995-04-25
期号2页码:149-152
关键词Si_3N_4 晶须 纳米粉 非晶 Si/N/C
中文摘要采用激光诱导有机硅烷气相合成的纳米非晶Si/N/C粉为原料,在1600℃,101.3kPaN2气下,在石墨感应炉中原位制备出α-Si3N4晶须,其直径为0.1-0.5μm,长可达几毫米,纯度较高,无过剩碳及金属杂质
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28238]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒. 用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须[J]. 材料研究学报,1995(2):149-152.
APA 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒.(1995).用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须.材料研究学报(2),149-152.
MLA 李亚利,梁勇,高阳,肖克沈,郑丰,王亚庆,胡壮麒."用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须".材料研究学报 .2(1995):149-152.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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