透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 马淑波 |
| 刊名 | 物理测试
 |
| 出版日期 | 1995-02-15 |
| 期号 | 1页码:42-45 |
| 关键词 | 透射电子显微镜:6629 样品制备技术:4444 电解抛光:3518 电解液:2607 金属薄膜样品:2482 离子减薄:2072 离子束:1579 穿透深度:1327 电火花切割:1135 电解槽:1053 |
| 中文摘要 | <正> 1 前言 透射电子显微镜的研究工作能否顺利地达到预期目的,也就是说所观察的样品是否有足够的薄区并能反映大块材料中的微观结构和获得好的透射电镜照片,其关键就是能否具有好的透射电镜样品。因此,寻求理想的样品制备技术是至关重要的。 目前制备金属薄膜样品应用最广泛的是双喷电解抛光技术;对于脆性或非导电性质的材料多应用离子减薄技术,本文就此两顶技术讨论如下。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28283]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马淑波. 透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术[J]. 物理测试,1995(1):42-45. |
| APA | 马淑波.(1995).透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术.物理测试(1),42-45. |
| MLA | 马淑波."透射电子显微镜样品制备技术(一)——薄膜样品制备技术".物理测试 .1(1995):42-45. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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