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反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究

文献类型:期刊论文

作者戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭
刊名电子显微学报
出版日期1994-12-25
期号6页码:467
关键词复合材料界面:7515 反应热压:5998 高分辨像:1379 NiAl:1309 非晶层:1034 高分辨电子显微镜:884 金属间化合物:775 界面相:739 计算机模拟:688 结构研究:663
中文摘要反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭(中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室,沈阳110015)B2型NiAl金属间化合物由于具有高熔点(1640℃),低密度(5.86g/cm ̄3),以及极佳的...
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28300]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭. 反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究[J]. 电子显微学报,1994(6):467.
APA 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭.(1994).反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究.电子显微学报(6),467.
MLA 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭."反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究".电子显微学报 .6(1994):467.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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