反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究
文献类型:期刊论文
作者 | 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭 |
刊名 | 电子显微学报
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出版日期 | 1994-12-25 |
期号 | 6页码:467 |
关键词 | 复合材料界面:7515 反应热压:5998 高分辨像:1379 NiAl:1309 非晶层:1034 高分辨电子显微镜:884 金属间化合物:775 界面相:739 计算机模拟:688 结构研究:663 |
中文摘要 | 反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭(中国科学院金属研究所固体原子像开放研究实验室,沈阳110015)B2型NiAl金属间化合物由于具有高熔点(1640℃),低密度(5.86g/cm ̄3),以及极佳的... |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28300] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭. 反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究[J]. 电子显微学报,1994(6):467. |
APA | 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭.(1994).反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究.电子显微学报(6),467. |
MLA | 戴吉岩,李斗星,叶恒强,邢占平,郭健亭."反应热压NiAl-TiB_2复合材料界面结构研究".电子显微学报 .6(1994):467. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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