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多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积

文献类型:期刊论文

作者陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪
刊名硅酸盐学报
出版日期1993-06-30
期号3页码:203-207
关键词热丝法 陶瓷基材 临界载荷
中文摘要用热丝法在Si_3N_4,AlN,sialon陶瓷基材上沉积了金刚石薄膜。沉积参数与在单晶硅上沉积金刚石基本一致.沉积速率为1μm/h。用X射线衍射和Raman光谱检测了所形成的膜。用划痕实验估测膜基附着力。结果表明:在Si_3N_4和sialon陶瓷基材上附着力较好;随金刚石膜厚增长,膜基附着力下降。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28592]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪. 多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积[J]. 硅酸盐学报,1993(3):203-207.
APA 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪.(1993).多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积.硅酸盐学报(3),203-207.
MLA 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪."多种陶瓷基材上金刚石膜的沉积".硅酸盐学报 .3(1993):203-207.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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