离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星 |
| 刊名 | 金属学报
 |
| 出版日期 | 1993-05-31 |
| 期号 | 5页码:11-15 |
| 关键词 | 晶体缺陷 界面结构 离子渗氮 |
| 中文摘要 | 采用高分辨电子显微镜研究了离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构结果表明,高速离子的持续轰击将导致大量空位点缺陷的产生,空位的聚合形成空位盘,空位盘的崩塌形成扩展位错,层错四面体等晶体缺陷ε(Fe_(2-3)N)和γ'(Fe_4N)相界面平直、共格,且具有:(111)∥(0001)_ε,[110]γ'∥[1120]_ε的取向关系 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28603]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星. 离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构[J]. 金属学报,1993(5):11-15. |
| APA | 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星.(1993).离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构.金属学报(5),11-15. |
| MLA | 孙东升,李凤照,戴吉岩,李斗星."离子渗氮层的晶体缺陷和界面结构".金属学报 .5(1993):11-15. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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