用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式
文献类型：期刊论文
| 作者 | 邓文 ; 熊良钺 ; 龙期威 ; 王淑荷 ; 郭建亭 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 1992-10-27 |
| 期号 | 10页码:21-24 |
| 关键词 | Ni_3Al 正电子湮没 硼含量 缺陷 |
| 中文摘要 | 本文用正电子湮没技术(PAT)研究了不同硼含量的单晶和多晶Ni_3Al中硼原子的存在形式。在Ni_3Al合金中加入少量硼(≤1.37％)时,一部分硼原子以间隙方式溶解到基体中,使晶格发生畸变,导致基体中正电子寿命(τ)增长;另一部分硼偏聚到空位型缺陷上,产生“填充效应”,导致平均寿命■和S参数下降。硼量为2.22at.-％时,缺陷态的τ显著增长,■和S参数增大,表明在晶界成晶内析出硼化物,诱发了较多的自由体积较大的缺陷。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28752]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓文,熊良钺,龙期威,等. 用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式[J]. 金属学报,1992(10):21-24. |
| APA | 邓文,熊良钺,龙期威,王淑荷,&郭建亭.(1992).用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式.金属学报(10),21-24. |
| MLA | 邓文,et al."用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式".金属学报 .10(1992):21-24. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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