氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪 |
| 刊名 | 材料科学进展
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| 出版日期 | 1992-03-01 |
| 期号 | 1页码:56-59 |
| 关键词 | 热丝CVD 金刚石薄膜 热膨胀系数 |
| 中文摘要 | 本文用热丝 CVD 法在氮化硅复合陶瓷及 Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用 X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、划痕实验仪对所形成的膜及基体进行了分析。初步探讨了膜与基材的附着性影响因素。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28874]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪. 氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积[J]. 材料科学进展,1992(1):56-59. |
| APA | 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪.(1992).氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积.材料科学进展(1),56-59. |
| MLA | 陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪."氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积".材料科学进展 .1(1992):56-59. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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