磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张鸿天,柏森,方光旦 |
| 刊名 | 应用科学学报
 |
| 出版日期 | 1989-12-31 |
| 期号 | 4页码:371-373 |
| 关键词 | 声发射:6105 磁盘表面:5201 磁头:3413 小突起:3076 力学特性:2811 位密度:1636 铲头:1163 磁盘机:998 声发射方法:925 严格抛光:874 |
| 中文摘要 | <正>存贮位密度是磁盘的主要性能指标之一.由经典公式知道,位密度D满足下面关系:1/D～((a+h)~2+(g/2)~2)~(1/2)式中a和g分别由磁层的特性和磁头的结构所决定.因此,提高磁盘存贮的位密度,降低磁头的浮动高度h是重要手段之一.事实上,经严格抛光处理的磁盘表面,仍存在着妨碍磁头浮动高度降低的小突起.它们非常细小,以至用常规方法很难检测.有人曾研究用声发射方法进行检测. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29173]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张鸿天,柏森,方光旦. 磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究[J]. 应用科学学报,1989(4):371-373. |
| APA | 张鸿天,柏森,方光旦.(1989).磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究.应用科学学报(4),371-373. |
| MLA | 张鸿天,柏森,方光旦."磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究".应用科学学报 .4(1989):371-373. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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