Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察
文献类型：期刊论文
| 作者 | 万立骏 ; 陈宝清 ; 郭可信 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 1988-06-29 |
| 期号 | 6页码:443-446 |
| 关键词 | 磁控溅射 离子镀 微观结构 镀膜 |
| 中文摘要 | 利用横截面电镜样品,对Ni基体磁控溅射离子镀Al膜进行了透射电镜观察。研究了不同工艺条件下镀膜的组织形态,相结构以及相分布。镀覆5min时,在Ni基体和镀Al膜交界处,发现一个Al-Ni系中迄今未见报道的未知相。经电子衍射分析其为体心四方点阵,a=b=0.588nm,c=0.480nm。研究了随时间变化的镀膜组织结构变化情况。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29333]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 万立骏,陈宝清,郭可信. Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察[J]. 金属学报,1988(6):443-446. |
| APA | 万立骏,陈宝清,&郭可信.(1988).Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察.金属学报(6),443-446. |
| MLA | 万立骏,et al."Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察".金属学报 .6(1988):443-446. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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