等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周序科 ; 闻立时 ; 关侃 |
| 刊名 | 粉末冶金技术
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| 出版日期 | 1988-03-01 |
| 期号 | 1页码:25-31 |
| 关键词 | 低压等离子喷涂:5258 显微结构:3582 低压喷涂:3511 耐磨涂层:3375 碳化钨颗粒:3329 钴包碳化钨涂层:2595 大气等离子喷涂:2166 包覆层:2127 碳化物:2110 结合强度:2072 |
| 中文摘要 | 利用x—衍射、扫描电镜、透射电镜、金相等物理实验方法,研究了低压等离子和大气等离子喷涂钴包碳化钨涂层的显微组织结构,并讨论了致密化机理。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29385]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周序科,闻立时,关侃. 等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究[J]. 粉末冶金技术,1988(1):25-31. |
| APA | 周序科,闻立时,&关侃.(1988).等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究.粉末冶金技术(1),25-31. |
| MLA | 周序科,et al."等离子喷涂钴包碳化钨涂层显微结构的研究".粉末冶金技术 .1(1988):25-31. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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