等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闻立时 |
| 刊名 | 物理
 |
| 出版日期 | 1987-04-01 |
| 期号 | 3页码:157-160 |
| 关键词 | 气体放电等离子体:7619 薄膜技术:3488 PACVD:3188 离子镀:2433 溅射:1853 气相沉积:1770 沉积温度:1548 科学技术:1478 体表面:1197 粒子:1044 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29500]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时. 等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用[J]. 物理,1987(3):157-160. |
| APA | 闻立时.(1987).等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用.物理(3),157-160. |
| MLA | 闻立时."等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用".物理 .3(1987):157-160. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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