Ti-B-N薄膜结构与性能的初步研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闻立时,陈秀芝,杨巧勤,郑玉芹,庄育智 |
| 刊名 | 真空科学与技术
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| 出版日期 | 1987-03-02 |
| 期号 | 1页码:31-34 |
| 关键词 | 界面结合强度:5195 摩擦系数:4080 膜层厚度:3753 金刚石表面:3664 显微形貌:2887 化学组成:2882 综合性能:1842 优良性能:1837 膜结构与性能:1726 透射电子显微镜:1561 |
| 中文摘要 | 用离子镀在W18Cr4V高速钢基材上制备了低硼含量的Ti-B-N薄膜。膜层厚度为2～5.5μm,显微硬度平均值为4200kg/mm~2(15g载荷),膜-基界面结合强度大于120kg/mm~2,对金刚石表面的摩擦系数为0.086～0.14(1000g载荷)。X射线与电子衍射表明:膜层主要由TiN(面心立方)、TiB(简单正交)、Ti-B-N(简单六方)三相组成,其中TiN含量最高,膜层表现出择优取向。用扫描电镜与透射电镜观察了膜层的表面与界面显微形貌,用离子探针分析了膜层的化学组成及其深度分布。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29515]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时,陈秀芝,杨巧勤,郑玉芹,庄育智. Ti-B-N薄膜结构与性能的初步研究[J]. 真空科学与技术,1987(1):31-34. |
| APA | 闻立时,陈秀芝,杨巧勤,郑玉芹,庄育智.(1987).Ti-B-N薄膜结构与性能的初步研究.真空科学与技术(1),31-34. |
| MLA | 闻立时,陈秀芝,杨巧勤,郑玉芹,庄育智."Ti-B-N薄膜结构与性能的初步研究".真空科学与技术 .1(1987):31-34. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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