Ti-N涂层晶体择优取向的电子衍射法研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闻立时,姜辛,斯重遥 |
| 刊名 | 无机材料学报
 |
| 出版日期 | 1986-12-31 |
| 期号 | 4页码:367-373 |
| 关键词 | Ti-N 涂层 晶体 择优取向 电子衍射 |
| 中文摘要 | 对用电子衍射法研究涂层晶体择优取向进行了尝试。首先从晶体电子衍射的基本原理出发从方法上进行探讨,然后用 Ti-N 涂层进行检验,给出了较为精确的结果。并将 X 射线衍射技术作为辅助手段研究了工艺参数对 Ti-N 涂层晶体择优取向的影响。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29536]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时,姜辛,斯重遥. Ti-N涂层晶体择优取向的电子衍射法研究[J]. 无机材料学报,1986(4):367-373. |
| APA | 闻立时,姜辛,斯重遥.(1986).Ti-N涂层晶体择优取向的电子衍射法研究.无机材料学报(4),367-373. |
| MLA | 闻立时,姜辛,斯重遥."Ti-N涂层晶体择优取向的电子衍射法研究".无机材料学报 .4(1986):367-373. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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